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用户定制或特殊应用
EC
功率(W):13
最大输出电压(KV):2
提高效率和晶圆吞吐量是普通电源的三倍。
减少背面气体错误、提高吞吐量并消除晶圆粘滞/爆裂问题;
控制参数,例如过电流、存在晶圆和晶圆钳位阈值、钳位电压、偏移电压和内部或外部振幅/偏移控制;
调整过程中的幅度/偏移和输出控制的多功能性;
使用后面板 I/O、串行计算机命令或前面板控制来控制输出;
配置自定义钳位和去钳位序列和波形。
可锁定的前面板控制界面
支持 Coulombic 和 Johnsen-Rahbek ESC 技术
将静电卡盘配置文件上传并存储到设备,并通过用户友好的软件界面存储在内部
晶圆检测包括无晶圆、存在晶圆或晶圆夹紧状态
产品介绍
威思曼的EC系列软件驱动的静电吸盘电源提供一系列功能,可满足各种要求苛刻的应用。该仪器采用了 威思曼放大器技术,该技术已证明可提高效率和吞吐量,相当于其他电源的三倍。 减少背面气体错误、提高吞吐量并消除晶圆粘滞/爆裂问题;控制参数,例如过电流、存在晶圆和晶圆钳位阈值、钳位电压、偏移电压和内部或外部振幅/偏移控制;调整过程中的幅度/偏移和输出控制的多功能性;使用后面板 I/O、串行计算机命令或前面板控制来控制输出;配置自定义钳位和去钳位序列和波形。威思曼的EC的多功能值得信赖的性能允许在多种独特的工具和流程中使用,无需为设施中的每个独特工具或流程增加新的成本。
产品特点:
可锁定的前面板控制界面
每个单元均提供可溯源校准证书
支持 Coulombic 和 Johnsen-Rahbek ESC 技术
将静电卡盘配置文件上传并存储到设备,并通过用户友好的软件界面存储在内部
晶圆检测包括无晶圆、存在晶圆或晶圆夹紧状态
应用领域:
静电驱动的材料处理
半导体晶圆加工
平板或其他对机械处理敏感的加工材料的非机械转移
特性说明:
输入:DC24V,2A
输出:
输出相位
输出电压 A(参考相):0 至 ±2 kV
输出电压 B(B 相 =[-1] x A 相):0 至 ±2kV
输出电压范围:0 至 ±2 kV DC,最大值
输出电流:0 至 ±6.5 mA DC,峰值能力为 10 mA
电压显示:
比例:1V/ 200 V
B相直流:精度优于满量程的 0.5%
失调电压:小于 10 毫伏
输出噪音:低于 50 mV rms
电流显示:
比例:1 V/100 uA
直流精度:±5 uA
输出噪音:低于 50 mV rms*
运行条件:
温度:0 至 35°C(32 至 104°F)
相对湿度:至 85%,无冷凝
海拔高度:至 2000 米(6561.68 英尺)
尺寸:高 x 宽 x 深 44 x 431.8 x 531.9 毫米(3.47 x 17 x 20.9 英寸),1U 机箱
重量:3.86千克(8.5 磅)
直流输入插座:2.0 毫米锁定直流插孔;中心是正和外壳是负(插座配带 Switchcraft S761K 插头)
有接地插座 ,有接地螺栓 。