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用户定制或特殊应用

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    EC

    功率(W):13
    最大输出电压(KV):2

    简介:

    提高效率和晶圆吞吐量是普通电源的三倍。 

    减少背面气体错误、提高吞吐量并消除晶圆粘滞/爆裂问题;

    控制参数,例如过电流、存在晶圆和晶圆钳位阈值、钳位电压、偏移电压和内部或外部振幅/偏移控制;

    调整过程中的幅度/偏移和输出控制的多功能性;

    使用后面板 I/O、串行计算机命令或前面板控制来控制输出;

    配置自定义钳位和去钳位序列和波形。

    可锁定的前面板控制界面

    支持 Coulombic 和 Johnsen-Rahbek ESC 技术

    将静电卡盘配置文件上传并存储到设备,并通过用户友好的软件界面存储在内部

    晶圆检测包括无晶圆、存在晶圆或晶圆夹紧状态

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产品介绍

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        威思曼的EC系列软件驱动的静电吸盘电源提供一系列功能,可满足各种要求苛刻的应用。该仪器采用了 威思曼放大器技术,该技术已证明可提高效率和吞吐量,相当于其他电源的三倍。 减少背面气体错误、提高吞吐量并消除晶圆粘滞/爆裂问题;控制参数,例如过电流、存在晶圆和晶圆钳位阈值、钳位电压、偏移电压和内部或外部振幅/偏移控制;调整过程中的幅度/偏移和输出控制的多功能性;使用后面板 I/O、串行计算机命令或前面板控制来控制输出;配置自定义钳位和去钳位序列和波形。威思曼的EC的多功能值得信赖的性能允许在多种独特的工具和流程中使用,无需为设施中的每个独特工具或流程增加新的成本。

产品特点:

可锁定的前面板控制界面

每个单元均提供可溯源校准证书

支持 Coulombic 和 Johnsen-Rahbek ESC 技术

将静电卡盘配置文件上传并存储到设备,并通过用户友好的软件界面存储在内部

晶圆检测包括无晶圆、存在晶圆或晶圆夹紧状态

应用领域:

静电驱动的材料处理

半导体晶圆加工

平板或其他对机械处理敏感的加工材料的非机械转移

特性说明:

输入:DC24V,2A

输出:

输出相位 

输出电压 A(参考相):0 至 ±2 kV

输出电压 B(B 相 =[-1] x A 相):0 至 ±2kV 

输出电压范围:0 至 ±2 kV DC,最大值 

输出电流:0 至 ±6.5 mA DC,峰值能力为 10 mA

电压显示:

比例:1V/ 200 V

B相直流:精度优于满量程的 0.5%

失调电压:小于 10 毫伏

输出噪音:低于 50 mV rms

电流显示:

比例:1 V/100 uA

直流精度:±5 uA

输出噪音:低于 50 mV rms*

运行条件:

温度:0 至 35°C(32 至 104°F) 

相对湿度:至 85%,无冷凝

海拔高度:至 2000 米(6561.68 英尺)

尺寸:高 x 宽 x 深 44 x 431.8 x 531.9 毫米(3.47 x 17 x 20.9 英寸),1U 机箱

重量:3.86千克(8.5 磅)

直流输入插座:2.0 毫米锁定直流插孔;中心是正和外壳是负(插座配带 Switchcraft S761K 插头)

有接地插座 ,有接地螺栓 。