电子束光刻是应用电子束加工设备和扫描电子显微镜技术制作用于LSI生产的半导体光罩。电子束光刻也称为电子束光刻（EB 光刻）或 EBL。掩模版也称为光罩，其作用类似于照相胶片，作为基板，用于将电子元件的电路图案转移到晶片或其他要转移的物体上。
在电子束光刻中，从电子枪发出的电子束（E 束）被电子透镜聚焦成一个非常小的光斑。通过根据光刻图案控制会聚电子束的移动和载物台的移动，对光刻材料进行电子光刻。电子束和载物台的控制基于电子束加工设备和扫描电子显微镜技术。
电子束光刻设备所需的电子枪和电子透镜需要高精度高压电源来操作。
威思曼高压电源3D系列是专门为电子枪和电子束光刻设备的电子透镜提供电源。这些高压电源也可以定制以满足客户的要求。
威思曼拥有一系列可用于电子束光刻的电源。示例：3D；3DA；EM ; SEM ;
