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威思曼高压电源针对E-chuck静电吸盘的应用方案
发布时间:2022-03-20    来源:wisman    浏览量:2127

背景

在半导体和液晶面板制造工艺中,真空吸盘和机械吸盘系统通常用于固定基板以进行处理。然而,由于吸附、变形的影响以及对提高可靠性的要求,利用静电力的吸盘已被广泛应用于当今的半导体晶圆厂设备中,以克服这些限制。

解决方案

静电吸盘由带有表面电极的平板组成,这些电极被高压偏置,以在平板和晶片之间建立静电力。

有两种类型的静电吸盘可供选择:Coulomb 和 Johnsen-Rahbek (JR) 类型。它们的区别在于它们的介电特性。夹紧力的产生方式也是有些区别。

库仑吸盘的功能类似于传统的介电电容器。

JR 型具有较大但有限的电阻,因此当表面紧密接触并施加电压时,电流会流过它和基板。电荷积聚在衬底和电介质之间的界面处,从而提供夹持力。

此外,吸盘上电极(或电极)的不同配置用于获得不同的特性。根据应用,可提供单极、双极(两极)和多极卡盘(包括 6 相六极类型)。

威思曼可为全系列的电子卡盘提供电源,其功能包括: 

高压双极输出(正/负), 

输出极性反转功能,便于晶圆吸附/去吸附, 

通过电容测量(库仑卡盘)或电流测量(JR卡盘)检测晶圆状态的能力, 

模拟和数字接口,可轻松集成到各种系统中

高可靠性,无机械继电器设计。

威思曼提供广泛的设计理论知识和制造能力,因此可以提供广泛的定制产品以满足各种要求。根据应用,功能包括高压偏置/偏移和射频滤波等选项。

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威思曼高压电源半导体领域的应用

当今复杂的半导体制造工艺需要各种高压电源解决方案,其中大多数都具有极其苛刻的规格。威思曼产品在整个晶圆厂中使用,从晶圆制程的开始到结束都有应用。从光刻 - 为光源供电 - 到静电晶片夹持到检查和测试设备,我们的精确、低噪声、高度稳定的高压电源确实是一种推动半导体技术快速发展的基础。如果您正在从事半导体行业的晶圆制程请联系威思曼了解我们提供的解决方案的更多信息。如果标准产品可能无法满足您的需求,我们可以为 OEM 应用提供定制设计。